7月28日，御微半導(dǎo)體首臺全自動掩模缺陷檢測設(shè)備i6R-300順利發(fā)運(yùn)國內(nèi)集成電路先進(jìn)制程生產(chǎn)線。
來源：御微半導(dǎo)體官微
據(jù)悉，i6R-300是御微半導(dǎo)體推出的用于集成電路先進(jìn)制程領(lǐng)域的新一代掩模缺陷檢測設(shè)備，采用高精度明暗場雙檢測系統(tǒng)，可以快速高效地同時(shí)檢測光掩模多個(gè)表面上的細(xì)微缺陷，并提供缺陷分類、全景檢視等功能，為工藝過程控制提供關(guān)鍵數(shù)據(jù)。
御微半導(dǎo)體官方消息顯示，其主要為集成電路制造提供先進(jìn)裝備，聚焦于集成電路光學(xué)量檢測系統(tǒng)設(shè)計(jì)與系統(tǒng)集成，圍繞集成電路裝備自主化，已經(jīng)形成了掩模版檢測、晶圓檢測、泛半導(dǎo)體檢測、晶圓測量等4大領(lǐng)域6大類量檢測產(chǎn)品。（校對/趙碧瑩）
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