近日，無錫市工業(yè)和信息化局公示了2024年無錫市擬認定企業(yè)技術(shù)中心名單，其中含集成電路企業(yè)無錫尚積半導體科技有限公司、無錫迪思微電子有限公司。

據(jù)悉，企業(yè)技術(shù)中心是指企業(yè)設立的技術(shù)研發(fā)與創(chuàng)新機構(gòu)，負責制定企業(yè)技術(shù)創(chuàng)新規(guī)劃、開展產(chǎn)業(yè)技術(shù)研發(fā)、創(chuàng)造運用知識產(chǎn)權(quán)、建立技術(shù)標準體系凝聚培養(yǎng)創(chuàng)新人才、推進技術(shù)創(chuàng)新全過程實施等工作，是企業(yè)技術(shù)創(chuàng)新體系的核心和主要技術(shù)依托。

無錫尚積半導體科技有限公司

尚積半導體是一家專業(yè)研發(fā)、生產(chǎn)半導體國產(chǎn)自研設備的廠商，主營設備包括金屬濺射沉積(PVD)，加強型等離子化學氣相沉積(PECVD)，等離子干法刻蝕(ETCH)三個領(lǐng)域，服務于全球的功率器件，微機電系統(tǒng)、先進封裝、化合物半導體、射頻、集成電路客戶，設備具備優(yōu)異的重復性和穩(wěn)定性、故障率低、使用壽命長、操作維修簡單等特點。

國家集成電路設計無錫產(chǎn)業(yè)化基地消息顯示，尚積半導體是國內(nèi)唯一的氧化釩(VOx)薄膜沉積設備制造商，國內(nèi)唯一的RF領(lǐng)域薄膜電阻關(guān)鍵工藝如氮化鉭(TaN)等薄膜設備制造商，國內(nèi)唯一的TC-SAW Si02薄膜沉積設備制造商，國內(nèi)唯一的高真空吸氣薄膜(Getter)沉積設備制造商。性能已超越進口設備，在客戶端已經(jīng)量產(chǎn)，市占率領(lǐng)先。

無錫迪思微電子有限公司

迪思微為原無錫華潤微電子有限公司掩模工廠，是國內(nèi)最早從事光掩模制造的專業(yè)企業(yè)，深耕光掩模領(lǐng)域35年，是國家級專精特新“小巨人”企業(yè)、江蘇省高新技術(shù)產(chǎn)業(yè)開發(fā)區(qū)瞪羚企業(yè)、江蘇省光掩模工程技術(shù)研究中心。

該公司擁有國內(nèi)領(lǐng)先的光掩模制造設備、技術(shù)工藝、質(zhì)量控制和信息安全保護措施，業(yè)務覆蓋國內(nèi)主流12英寸、8英寸、6英寸線。（校對/鄺威洋）