上世紀(jì)八十年代，原子層沉積（Atomic Layer Deposition，ALD）最初由芬蘭科學(xué)家提出并應(yīng)用于平板顯示器件中Al2O3絕緣膜的沉積。2007年英特爾公司將原子層沉積技術(shù)引入45納米節(jié)點(diǎn)及以后的集成電路制造工藝，由于其沉積參數(shù)的高度可控性（厚度，成份和結(jié)構(gòu)），優(yōu)異的沉積均勻性和一致性使得其在微電子領(lǐng)域獲得了廣泛的應(yīng)用。
中國(guó)科學(xué)院微電子所四室劉洪剛研究員針對(duì)工業(yè)界常用的電子束方法制備分布式布拉格反射鏡（DBR）存在厚度不均勻、生產(chǎn)效率低等缺點(diǎn)，提出采用原子層沉積技術(shù)研制高性能分布式布拉格反射鏡（DBR）的設(shè)想以提升半導(dǎo)體發(fā)光器件的光提取效率，他帶領(lǐng)的科研團(tuán)隊(duì)通過(guò)開(kāi)展ALD-DBR的材料篩選、結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)、沉積工藝、光學(xué)測(cè)量等方面的系統(tǒng)研究，研制出適于ALD大規(guī)模生產(chǎn)的Al2O3/TiO2新型DBR結(jié)構(gòu)并成功應(yīng)用于高光效氮化鎵基發(fā)光二極管（GaN LED）的制造，使GaN LED的光輸出功率提高43%以上。
發(fā)光器件效率顯著提升
該科研團(tuán)隊(duì)的研究成果已經(jīng)在國(guó)際專(zhuān)業(yè)期刊APEX上發(fā)表（Applied Physics Express 6(2013) 022101），成為當(dāng)月下載量最多的20篇論文之一。該成果受到國(guó)際與國(guó)內(nèi)同行的廣泛關(guān)注，先后被Semiconductor Today、LED Professional、LEDs科技等專(zhuān)業(yè)雜志與網(wǎng)站的專(zhuān)門(mén)報(bào)道，同時(shí)芬蘭
