高純度光刻膠對于在先進(jìn)生產(chǎn)節(jié)點(diǎn)上制造芯片至關(guān)重要。隨著中國努力構(gòu)建自給自足的半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)，市場不僅需要開發(fā)復(fù)雜的芯片制造工具，還需要開發(fā)高純度光刻膠。據(jù)報道，2024年中國在光刻膠開發(fā)方面取得了顯著進(jìn)展，這得益于政府倡議和本土芯片制造商不斷增長的需求。

半導(dǎo)體光刻膠按曝光波長分類，包括寬帶紫外（300-450nm）、g線（436nm）、i線（365nm）、KrF（248nm）、ArF（193nm）、EUV（13.5nm）和電子束類型。KrF、ArF和EUV光刻膠是所有光刻膠中最純凈和最先進(jìn)的。全球市場由來自日本和美國的主要企業(yè)主導(dǎo)，如JSR、東京應(yīng)化工業(yè)、信越化學(xué)、住友化學(xué)、富士膠片和杜邦，他們控制著大多數(shù)先進(jìn)光刻膠技術(shù)。

包括上海新陽、彤程化學(xué)和徐州博康在內(nèi)的中國公司已在入門級光刻膠方面取得進(jìn)展，但由于技術(shù)挑戰(zhàn)和起步較晚，在高端市場競爭中仍面臨困難。目前，中國國內(nèi)的市場滲透率仍然較低：g線和i線光刻膠約為20%，KrF不足5%，ArF低于1%。然而，有一些中國公司正在朝著先進(jìn)光刻膠的方向邁進(jìn)。

湖北鼎龍最近宣布，其ArF和KrF光刻膠通過了客戶評估，并從兩家國內(nèi)晶圓制造商獲得了訂單，總額超過100萬元（13.7萬美元）。據(jù)報道，該公司通過定制單體和樹脂結(jié)構(gòu)，并提升純化和混合等工藝，實(shí)現(xiàn)了從材料到最終產(chǎn)品的全流程本地化生產(chǎn)。

容大感光獲得2.44億元（3349.3萬美元）的私募融資批準(zhǔn)，用于資助高端光刻膠項目、IC基板焊料掩膜和干膜。這些資金將支持研發(fā)成本和運(yùn)營需求。容大感光的干膜產(chǎn)品面向PCB和半導(dǎo)體行業(yè)，由于中國產(chǎn)能增加，這些行業(yè)正經(jīng)歷強(qiáng)勁增長。

中國迅速擴(kuò)張的微電子制造基地增加了對本地化光刻膠解決方案的需求，隨著新晶圓廠的上線，這一需求愈發(fā)迫切。中國政府積極支持半導(dǎo)體和原材料產(chǎn)業(yè)，出臺政策鼓勵國內(nèi)創(chuàng)新，減少對外國供應(yīng)商的依賴。

盡管由于全球競爭設(shè)置的高技術(shù)壁壘，挑戰(zhàn)依然存在，但中國光刻膠行業(yè)正在逐步縮小差距，這有望最終擴(kuò)大這些公司在高端應(yīng)用中的市場份額。（校對/李梅）