近日，半導體材料企業(yè)中科卓爾完成合計數億元B輪融資，領投方為中銀國際投資旗下成都交子中贏創(chuàng)新發(fā)展基金。同時，多家跟投機構亦在快速推進中。融資資金將用于半導體光刻用石英掩?；宓墓に囇邪l(fā)、國產化產線建設及突破量產瓶頸。

資料顯示，中科卓爾成立于2018年，由中科院光電所楊偉博導領銜組建，是一家精密光電及半導體智能裝備研發(fā)商，專注于精密光學、半導體材料及智能裝備等研發(fā)生產。公司突破了半導體掩模版基板精密拋光與鍍膜關鍵技術，具備從工藝到核心設備的研發(fā)生產能力，并承擔國家半導體空白掩模版產業(yè)鏈攻關項目，其主要產品覆蓋130~250nm制程半導體/顯示用空白掩模版（28~90nm產品正在積極儲備研發(fā)）及相關核心設備。

空白掩模版作為光刻工藝中的圖形轉移載體，是芯片與顯示屏用光刻機的核心材料，直接影響光刻精度及產品良率。目前，中國大陸能夠小批量穩(wěn)定供應第三方石英空白掩模版的企業(yè)僅4~5家，且關鍵制程設備仍依賴進口。中科卓爾致力于解決我國空白掩膜版“卡脖子”難題。

據介紹，技術層面，中科卓爾已實現(xiàn)三項自主突破，其中，超精密拋光工藝達到表面粗糙度優(yōu)于0.2納米（國際主流水平0.3納米）；磁控濺射鍍膜設備實現(xiàn)膜層均勻性±2%（國際標準±5%）；缺陷檢測系統(tǒng)可識別0.3微米級瑕疵并關聯(lián)生產數據。中科卓爾表示，目前國產空白掩模版在130~500nm制程已實現(xiàn)技術對標，但在100nm以內更先進節(jié)點仍需進一步突破。

商業(yè)化方面，中科卓爾的空白掩模版已通過路維光電、龍圖光罩和國內多家自研光刻機等企業(yè)驗證。目前中科卓爾成都中試線已完成工藝與產品驗證，本輪融資將重點推進量產能力建設。（校對/趙月）