2025年上半年，隨著龍圖光罩、路維光電、清溢光電、冠石科技四家A股核心掩膜版企業(yè)半年報(bào)相繼披露，這條高壁壘賽道的 “軍備競(jìng)賽” 最新動(dòng)態(tài)浮出水面。集微網(wǎng)通過(guò)對(duì)研發(fā)投入、人才儲(chǔ)備、專利布局以及技術(shù)進(jìn)展等關(guān)鍵維度的拆解，試圖還原國(guó)產(chǎn)掩膜版企業(yè)在這場(chǎng)較量中的突圍態(tài)勢(shì)與未來(lái)走向。

研發(fā)投入：分化中藏增長(zhǎng)密碼

研發(fā)費(fèi)用是企業(yè)技術(shù)競(jìng)爭(zhēng)力的 “燃料”。2025 年上半年，四家企業(yè)研發(fā)費(fèi)用呈現(xiàn)分化格局。清溢光電以2485萬(wàn)元的研發(fā)費(fèi)用居首，但同比微降2.48%；龍圖光罩研發(fā)費(fèi)用雖僅1179萬(wàn)元，卻實(shí)現(xiàn)10.22%的同比正增長(zhǎng)，在四家企業(yè)中表現(xiàn)亮眼；冠石科技、路維光電研發(fā)費(fèi)用分別為1951萬(wàn)元、1801萬(wàn)元，同比下降15.92%、9.59%。

從研發(fā)費(fèi)用率看，龍圖光罩以10.17%一騎絕塵，遠(yuǎn)超其他三家，彰顯其對(duì)研發(fā)的“重倉(cāng)”態(tài)度；清溢光電為4%，路維光電3.31%，冠石科技2.82%。龍圖光罩的高研發(fā)費(fèi)用率，與其珠海工廠投產(chǎn)、布局高端制程等戰(zhàn)略動(dòng)作緊密相關(guān)，為后續(xù)技術(shù)突破和市場(chǎng)拓展積蓄力量。

研發(fā)人員規(guī)模與占比，是技術(shù)人才儲(chǔ)備的直觀體現(xiàn)。截至2025年6月30日，清溢光電以106名研發(fā)人員成為“人才大戶”，冠石科技97人、路維光電56人、龍圖光罩43人緊隨其后。

研發(fā)人員占比方面，清溢光電16.54%、龍圖光罩16.48%、路維光電16.33%，差距甚微，冠石科技12.52%稍低。這表明除冠石科技外，其余三家企業(yè)均保持著較高的研發(fā)人才密度，為技術(shù)創(chuàng)新提供了人力支撐。

專利是研發(fā)成果的“硬通貨”。清溢光電以84項(xiàng)專利總數(shù)領(lǐng)跑，發(fā)明專利18項(xiàng)；路維光電雖專利總數(shù)67項(xiàng)，但發(fā)明專利達(dá)22項(xiàng)，在四家企業(yè)中拔得頭籌；冠石科技、龍圖光罩專利總數(shù)分別為72項(xiàng)、70項(xiàng)，發(fā)明專利14項(xiàng)、13項(xiàng)。發(fā)明專利數(shù)量的多寡，直接反映企業(yè)在核心技術(shù)領(lǐng)域的突破能力，路維光電的表現(xiàn)尤為突出，顯示其在關(guān)鍵技術(shù)上的攻堅(jiān)成效。

技術(shù)實(shí)力：各展所長(zhǎng)，國(guó)產(chǎn)替代提速

清溢光電：顯示領(lǐng)域領(lǐng)跑，夯實(shí)龍頭地位

在平板顯示掩膜版領(lǐng)域，清溢光電穩(wěn)居全球第四、中國(guó)第一。據(jù)Omdia數(shù)據(jù)顯示，2024年公司平板顯示掩膜版銷售金額位列全球第四。其產(chǎn)品覆蓋8.6代高精度TFT用掩膜版、6代中高精度AMOLED/LTPS掩膜版等，與京東方、維信諾等國(guó)內(nèi)主要面板廠商深度合作。2025年上半年，公司實(shí)現(xiàn)中高端半透膜掩膜版（HTM）量產(chǎn)及超高規(guī)HTM小規(guī)模量產(chǎn)，OLED HTM與高規(guī)格相移掩膜版（PSM）也在規(guī)劃開(kāi)發(fā)中，持續(xù)鞏固在顯示領(lǐng)域的技術(shù)優(yōu)勢(shì)。

半導(dǎo)體芯片掩膜版領(lǐng)域，清溢光電已實(shí)現(xiàn)180nm工藝節(jié)點(diǎn)量產(chǎn)、150nm小規(guī)模量產(chǎn)，應(yīng)用于IGBT、碳化硅等領(lǐng)域，與芯聯(lián)集成、比亞迪半導(dǎo)體等企業(yè)建立合作。SEMI預(yù)計(jì)2025年中國(guó)半導(dǎo)體芯片掩膜版需求達(dá)6.95億美元，但目前國(guó)產(chǎn)制造能力薄弱，依賴海外。清溢光電通過(guò)拓展工藝研發(fā)能力，正加速提升半導(dǎo)體芯片掩膜版國(guó)產(chǎn)化率。

路維光電：技術(shù)突破頻繁，打破海外壟斷

路維光電在多個(gè)技術(shù)領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn)突破，縮小與國(guó)外領(lǐng)先企業(yè)的差距。G11高精度超大尺寸掩膜版領(lǐng)域，公司是國(guó)內(nèi)首家且唯一掌握該技術(shù)的企業(yè)，躋身世界第四；半色調(diào)掩膜版領(lǐng)域，實(shí)現(xiàn)全世代產(chǎn)品量產(chǎn)，打破國(guó)外長(zhǎng)期壟斷；PSM領(lǐng)域，完成衰減型相移掩膜版工藝技術(shù)研發(fā)，部分產(chǎn)品已量產(chǎn)或通過(guò)客戶驗(yàn)證；光阻涂布領(lǐng)域，自主開(kāi)發(fā)高精度、大尺寸技術(shù)，實(shí)現(xiàn)產(chǎn)業(yè)鏈上游延伸。

憑借技術(shù)優(yōu)勢(shì)，路維光電構(gòu)建了豐富的產(chǎn)品矩陣。顯示領(lǐng)域，是國(guó)內(nèi)唯一可全面配套不同世代面板產(chǎn)線的本土企業(yè)，覆蓋全顯示技術(shù)；半導(dǎo)體領(lǐng)域，已實(shí)現(xiàn)180nm制程量產(chǎn)，150nm/130nm小批量量產(chǎn)，產(chǎn)品覆蓋第三代半導(dǎo)體相關(guān)領(lǐng)域。同時(shí)，公司投資建設(shè)路芯半導(dǎo)體130 - 28nm項(xiàng)目，投產(chǎn)后將進(jìn)一步完善半導(dǎo)體領(lǐng)域布局，推動(dòng)國(guó)產(chǎn)替代。

龍圖光罩：產(chǎn)能釋放+技術(shù)攻堅(jiān)，劍指高端制程

龍圖光罩作為國(guó)內(nèi)稀缺的獨(dú)立第三方半導(dǎo)體掩模版廠商，2025年上半年珠海工廠順利投產(chǎn)，成為發(fā)展關(guān)鍵節(jié)點(diǎn)。第三代掩模版PSM產(chǎn)品取得進(jìn)展，90nm節(jié)點(diǎn)產(chǎn)品實(shí)現(xiàn)從研發(fā)到量產(chǎn)的跨越，65nm節(jié)點(diǎn)產(chǎn)品送樣驗(yàn)證，高端制程影響力提升。公司與國(guó)內(nèi)頭部晶圓廠深化合作，更高等級(jí)產(chǎn)品下半年將流片驗(yàn)證，未來(lái)制程將向65nm甚至更高拓展，下游應(yīng)用領(lǐng)域也將進(jìn)一步擴(kuò)展。

2025年上半年，公司營(yíng)業(yè)收入雖因產(chǎn)能瓶頸、策略性降價(jià)及客戶采購(gòu)調(diào)整有所下滑，但二季度下滑幅度收窄。隨著珠海工廠新產(chǎn)能爬坡，以及先進(jìn)封裝領(lǐng)域客戶的開(kāi)拓，公司收入和凈利潤(rùn)預(yù)計(jì)逐步恢復(fù)增長(zhǎng)。同時(shí)，公司持續(xù)加大研發(fā)投入，2025年上半年研發(fā)費(fèi)用同比增長(zhǎng)10.22%，為第三代半導(dǎo)體掩模版技術(shù)全流程研發(fā)提供支持，保持技術(shù)優(yōu)勢(shì)。

冠石科技：新產(chǎn)線破局，瞄準(zhǔn)先進(jìn)制程

冠石科技子公司寧波冠石的光掩膜版項(xiàng)目 2025年上半年進(jìn)入送樣驗(yàn)證期，雖收入規(guī)模較小，但進(jìn)展迅速。2023年5月啟動(dòng)的 “光掩膜版制造項(xiàng)目”，2025年3月實(shí)現(xiàn)55納米光掩膜版交付及40納米生產(chǎn)線通線，填補(bǔ)了國(guó)內(nèi)先進(jìn)制程光罩空白，打破國(guó)外壟斷。

目前，相關(guān)制程產(chǎn)品在客戶端驗(yàn)證、流片進(jìn)展理想，項(xiàng)目部分建成投產(chǎn)后，公司將成為國(guó)內(nèi)技術(shù)先進(jìn)的獨(dú)立光掩膜版生產(chǎn)企業(yè)，提升我國(guó)半導(dǎo)體光掩膜產(chǎn)業(yè)的安全性與可控性。2025年上半年，該項(xiàng)目已實(shí)現(xiàn)營(yíng)業(yè)收入716.88萬(wàn)元，未來(lái)增長(zhǎng)潛力值得期待。

總結(jié)

2025年上半年，四家A股核心掩膜版企業(yè)在研發(fā)投入、技術(shù)突破、產(chǎn)能布局等方面各有亮點(diǎn)，盡管當(dāng)前仍面臨部分高端領(lǐng)域依賴進(jìn)口、市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)加劇等挑戰(zhàn)，但隨著國(guó)產(chǎn)替代需求的持續(xù)釋放，以及企業(yè)在技術(shù)研發(fā)和產(chǎn)能擴(kuò)張上的不斷投入，國(guó)產(chǎn)掩膜版企業(yè)有望在這場(chǎng)高壁壘賽道的 “軍備競(jìng)賽” 中，實(shí)現(xiàn)更大范圍的突破，為我國(guó)半導(dǎo)體和顯示產(chǎn)業(yè)的發(fā)展提供更堅(jiān)實(shí)的支撐。