KrF工藝前道涂膠顯影設(shè)備Ultra Lith _KrF 系統(tǒng)利用專有平臺(tái)設(shè)計(jì)實(shí)現(xiàn)高產(chǎn)能與先進(jìn)工藝控制，專為成熟節(jié)點(diǎn)光刻應(yīng)用而打造。

盛美半導(dǎo)體設(shè)備(上海)股份有限公司(以下簡(jiǎn)稱“盛美上海”)(科創(chuàng)板股票代碼:688082)，作為一家為半導(dǎo)體前道和先進(jìn)晶圓級(jí)封裝應(yīng)用提供晶圓工藝解決方案的卓越供應(yīng)商，于今日宣布推出首款KrF工藝前道涂膠顯影設(shè)備Ultra Lith _KrF，旨在支持半導(dǎo)體前端制造。該系統(tǒng)的問世標(biāo)志著盛美上海光刻產(chǎn)品系列的重要擴(kuò)充，具有高產(chǎn)能、先進(jìn)溫控技術(shù)以及實(shí)時(shí)工藝控制和監(jiān)測(cè)功能。首臺(tái)設(shè)備系統(tǒng)已于2025年9月交付中國(guó)頭部邏輯晶圓廠客戶。

盛美上海總經(jīng)理王堅(jiān)表示：KrF工藝前道涂膠顯影設(shè)備Ultra Lith _KrF的推出拓展了盛美上海在前端工藝設(shè)備領(lǐng)域的影響力，體現(xiàn)了我們應(yīng)對(duì)更廣泛的光刻技術(shù)挑戰(zhàn)，KrF光刻技術(shù)仍是成熟工藝器件生產(chǎn)的核心工藝，我們相信此類設(shè)備在全球半導(dǎo)體產(chǎn)出中占比龐大且持續(xù)增長(zhǎng)。通過同時(shí)提供ArF和KrF工藝涂膠顯影系統(tǒng)，我們正在更廣泛的應(yīng)用領(lǐng)域中，實(shí)現(xiàn)了順暢的晶圓廠集成效率，提升制造靈活性。

盛美上海的Ultra Lith _KrF工藝前道涂膠顯影設(shè)備基于其ArF工藝前道涂膠顯影設(shè)備平臺(tái)成熟的架構(gòu)和工藝成果打造，該平臺(tái)已于2024年底在中國(guó)一家頭部客戶端完成工藝驗(yàn)證。此次推出的KrF系統(tǒng)可均勻涂布次埃級(jí)涂層，具備先進(jìn)溫控技術(shù)以及與ASML光刻機(jī)匹配的關(guān)鍵尺寸（CD）精度，為KrF型號(hào)的設(shè)計(jì)優(yōu)化奠定堅(jiān)實(shí)基礎(chǔ)。

產(chǎn)品主要特點(diǎn)

盛美上海推出的KrF工藝涂膠顯影Track設(shè)備Ultra Lith _KrF采用靈活工藝模塊配置，配備12個(gè)旋涂腔和12個(gè)顯影腔（12C12D），并搭載54塊可精確控溫的熱板，支持低溫、中溫及高溫工藝處理，具備優(yōu)異的熱均勻性。該設(shè)備產(chǎn)能超過300片晶圓/小時(shí)（WPH），并集成盛美上海專利申請(qǐng)中的背面顆粒去除模塊（BPRV），有效降低交叉污染風(fēng)險(xiǎn)。

此外，集成的晶圓級(jí)異常檢測(cè)（WSOI）模塊可實(shí)現(xiàn)實(shí)時(shí)工藝偏差檢測(cè)和良率異常監(jiān)測(cè)，從而提高工藝穩(wěn)定性和生產(chǎn)效率。