9月8日，盛美半導(dǎo)體設(shè)備（上海）股份有限公司（以下簡稱“盛美上海”）宣布推出首款自主研發(fā)的高產(chǎn)出KrF工藝前道涂膠顯影（Track）設(shè)備Ultra LITH KrF，并宣布該設(shè)備已于9月成功交付中國頭部邏輯客戶！高產(chǎn)出Ultra LITH KrF的問世，是盛美上海在光刻工藝前道設(shè)備領(lǐng)域邁出的關(guān)鍵一步，標(biāo)志著公司光刻Track產(chǎn)品版圖的進(jìn)一步擴(kuò)展。
高產(chǎn)出Ultra LITH架構(gòu)新突破
據(jù)了解，不同于業(yè)界主流的水平式方案，Ultra LITH采用盛美上海自主創(chuàng)新、并已獲得全球?qū)＠暾埍Ｗo(hù)的垂直交叉式結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)。這一全新架構(gòu)擁有三大顯著優(yōu)勢，一是高產(chǎn)能：顯著縮短機(jī)械手行程、提升傳輸效率，使系統(tǒng)產(chǎn)能在現(xiàn)有基礎(chǔ)上進(jìn)一步突破，其產(chǎn)能可達(dá)到300片晶圓/小時(shí)（WPH）以上；二是工藝領(lǐng)先：設(shè)備內(nèi)部的氣流分布經(jīng)過優(yōu)化，降低顆粒污染風(fēng)險(xiǎn)，而腔體獨(dú)立排氣設(shè)計(jì)則提升了光刻膠厚度的均勻性；三是擁有高可靠性和穩(wěn)定性：系統(tǒng)還配備自主研發(fā)的電控系統(tǒng)與軟件控制平臺，實(shí)現(xiàn)低延遲與高實(shí)時(shí)性，并通過AOI監(jiān)控實(shí)現(xiàn)全程異常檢測，進(jìn)一步保障了可靠性。
Ultra LITH KrF系統(tǒng)正是基于盛美上海這一成熟的平臺架構(gòu)，融合多項(xiàng)自主創(chuàng)新技術(shù)，具備高產(chǎn)能、先進(jìn)溫控、實(shí)時(shí)工藝控制與監(jiān)測等優(yōu)勢。該設(shè)備配備12個(gè)旋涂腔和12個(gè)顯影腔（12C12D），搭載54塊可精確控溫的熱板，產(chǎn)能超過300WPH，并集成背面顆粒去除（BPRV）及晶圓級異常檢測（WSOI）模塊，有效保障工藝穩(wěn)定性和生產(chǎn)良率。
隨著Ultra LITH KrF設(shè)備的正式交付，盛美上海的Track系列實(shí)現(xiàn)了從ArF到KrF的全面覆蓋，形成了兼顧先進(jìn)工藝與高產(chǎn)能的針對成熟節(jié)點(diǎn)的完整產(chǎn)品矩陣。此前，盛美上海ArF工藝涂膠顯影設(shè)備已于2024年底在國內(nèi)頭部客戶完成工藝驗(yàn)證，而此次KrF產(chǎn)品的加入，則進(jìn)一步鞏固了公司在光刻工藝環(huán)節(jié)的布局。值得關(guān)注的是，盛美上海對接高產(chǎn)出ArF i浸沒式光刻機(jī)的Track設(shè)備也正在研發(fā)中，計(jì)劃于2026年正式推出，屆時(shí)將進(jìn)一步完善公司在光刻Track領(lǐng)域的全線產(chǎn)品版圖。
盛美上?？偨?jīng)理王堅(jiān)表示：“KrF光刻技術(shù)仍是全球成熟工藝產(chǎn)線的重要支撐，Ultra LITH KrF的推出拓展了盛美上海在前段工藝設(shè)備領(lǐng)域的產(chǎn)品陣列。值得一提的是，我們在該設(shè)備中采用了獨(dú)家供貨的機(jī)械手傳輸系統(tǒng)以及其它關(guān)鍵零部件，確保系統(tǒng)的穩(wěn)定性與高精度。此類KrF設(shè)備在全球半導(dǎo)體產(chǎn)出中占比龐大且將持續(xù)增長，通過同時(shí)提供ArF和KrF工藝涂膠顯影系統(tǒng)，我們在更廣泛的應(yīng)用領(lǐng)域中，實(shí)現(xiàn)了順暢的晶圓廠集成效率，提升制造靈活性?！?/p>
盛美上海加速布局光刻Track 推動國產(chǎn)前道工藝裝備突破
在光刻工藝中，Track設(shè)備（涂膠顯影機(jī)）與光刻機(jī)密切配合，是晶圓制造不可或缺的關(guān)鍵環(huán)節(jié)。其主要功能涵蓋光刻膠涂布、預(yù)烘烤、顯影及后烘烤等步驟，直接決定了圖形轉(zhuǎn)移的精度和良率。隨著先進(jìn)制程對線寬控制、缺陷率及產(chǎn)能效率的要求不斷提高，Track設(shè)備的重要性日益凸顯。掌握高產(chǎn)出Track設(shè)備核心技術(shù)并形成完整的產(chǎn)品矩陣，已成為推動國產(chǎn)前道工藝裝備突破的關(guān)鍵一環(huán)。
與此同時(shí)，在成熟制程產(chǎn)能需求持續(xù)擴(kuò)大的背景下， KrF及ArF Track設(shè)備市場空間廣闊。市場研究機(jī)構(gòu)QYResearch數(shù)據(jù)顯示，2024年全球半導(dǎo)體Track系統(tǒng)市場規(guī)模約為39.32億美元，預(yù)計(jì)到2031年將達(dá)到62.13億美元，2025~2031年間的復(fù)合年均增長率（CAGR）為6.3%，因此KrF與ArF Track設(shè)備將在未來數(shù)年持續(xù)迎來強(qiáng)勁需求。
在這一趨勢下，盛美上海不斷加快光刻Track產(chǎn)品的研發(fā)和交付。從2022年通過Ultra LITH ArF產(chǎn)品進(jìn)入前道涂膠顯影設(shè)備賽道以來，憑借模塊化設(shè)計(jì)、工藝兼容性與核心工藝控制模塊的集成優(yōu)勢，盛美上海設(shè)備在系統(tǒng)良率保障能力方面持續(xù)提升。如今，隨著KrF與ArF設(shè)備的“雙輪驅(qū)動”，盛美上海正從清洗、電鍍、爐管以及先進(jìn)封裝等傳統(tǒng)優(yōu)勢領(lǐng)域，進(jìn)一步夯實(shí)在前道Track這一關(guān)鍵工藝環(huán)節(jié)的布局，并逐步站穩(wěn)腳跟，有望快速實(shí)現(xiàn)高產(chǎn)出的量產(chǎn)KrF Track國產(chǎn)化率零的突破，成為盛美上海實(shí)施的平臺化戰(zhàn)略的又一個(gè)里程碑。盛美上海也在積極推進(jìn)面向存儲客戶的更高產(chǎn)出400WPH KrF Track設(shè)備的研發(fā)，預(yù)計(jì)將于2026年推向市場。
依托持續(xù)創(chuàng)新與本土化支持能力，盛美上海的Track設(shè)備在晶圓廠產(chǎn)線中的滲透率正逐步提高。展望未來，隨著Ultra LITH KrF的量產(chǎn)與推廣，盛美上海有望在全球光刻Track市場中占據(jù)更加重要的戰(zhàn)略地位?。ㄐ?孫樂）
